- 厳しい要求を満たす最高出力のOPCPAシステム
- kWクラスのYb:YAGイノスラブアンプまたはディスクレーザーにより励起
- 平均パワー 100 Wまで
- パルス幅 9 fs
- CEP安定オプション
- 極端紫外光から中赤外光までアドオン可能
アプリケーション
極端紫外線・軟X線科学
高次高調波発生 / コヒーレント制御 / アト秒ストリーキング
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生体粒子イメージング / ナノ粒子・クラスター | EUVでの検査 | 固体・ガス内アト秒ダイナミクス |
Supernova OPCPAは2µmなどの中赤外レンジの数サイクル、mJレベルの高出力パルスの発振が可能です。アムステルダムの研究施設・Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL)で秀逸な軟X線光源として高い評価を得ております。
巨大研究施設
物質科学・X線イメージン用ポンププローブレーザー / 光電陰極レーザー、Seeding、Heating、粒子バンチのスライス / 外部クロックへのフェムト秒同期 (RF and Fiber Link)
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自由電子レーザー | 粒子加速 | レーザー使用施設 |
仕様
Supernova OPCPAは超短パルス・高時間コントラストが特長の受賞歴のある旗艦モデルです。波長柔軟性、マルチ出力やCEP安定のオプションは高出力でのカスタムマルチカラー実験などに合わせた構成が可能です。これらの性能は研究者を新しい研究の限界へと引き上げるていきます。
SN-800 | SN-1550 | SN-2200 | SN-3000 | |
中心波長 | 800 nm | 1550 nm | 2200 nm | 3000 nm |
波長可変レンジ(オプション) | 700 - 950 nm | 1400-1700 nm | - | - |
パルス幅 | < 9 fs | < 35 fs | < 30 fs | < 50 fs |
平均パワー | > 20 - 100 W | > 20 - 100 W | > 20 - 100 W | > 20 - 100 W |
パルスエネルギー | > 1 mJ | > 1 mJ | > 1 mJ | > 1 mJ |
繰り返し | 20 - 100 kHz | 20 - 100 kHz | 20 - 100 kHz | 20 - 100 kHz |
CEP安定 | on request | on request | on request | on request |
HHGへの拡張 | on request | on request | on request | on request |
ポンプレーザー | 300 W - 1 kW | 300 W - 1 kW | 300 W - 1 kW | 300 W - 1 kW |
Supernova HE at 1 kHz | on request | on request | on request | on request |