PhotoniCore社
2kWの高出力を実現したファイバーレーザーキャビティです。中心波長1080±5 nm、連続波(CW)動作に対応し、M²<1.3の優れたビーム品質を特長としています。
CNI Laser社
波長320nmにおいて3Wの高出力を実現した紫外域レーザーです。UV-DP-Bシリーズは、高出力性能に加え、優れた出力安定性を特長としており、10,000時間の連続運転テストにおいても高い信頼性を実証しています。
CNI Laser社
ベースモデル『AO-355A』を同じ仕様で若干小型化した『AO-355B』のご紹介です。波長355nm・平均パワー3Wの高エネルギーDPSSレーザーで、短パルス<15ns、繰り返し1-10kHz可変、パルスエネルギー1mJ @3kHzの仕様です。
LEDlas社
台湾LEDlas社によって、ランプでもダイオードレーザーでもなく「LED」を使って励起を行うゲインモジュールが開発されました。高い出力安定性と長寿命を実現し、ランプ交換に伴うメンテナンスコストを大幅に低減します。
SKM Instruments社
1064 nm励起のFTラマン分光技術を採用したポータブル分析装置です。蛍光干渉を大幅に低減し、着色原料や有機化合物を含む多様な試料の非破壊測定を可能にします。
Discovery Semidonductors社
マルチバンド(O, E, S, C, L-band)対応コヒーレントレシーバー測定器。64Gbaudまで対応。光ハイブリッド有無オプション有。 GUIソフトウェア、SCPIコマンド、USBインターフェース、Ethernet可。衛星通信、空孔ファイバーの研究開発、Coherent Lidar、Microwave Photonicsのアプリケーション向け。
RealLight Technology社
コンパクトで組み込みやすいデザインの狭線幅レーザーモジュールをRealLight社が開発しました。横モードシングルで空間出力の「NLSO」シリーズ、高出力でマルチモードファイバ出力の「NLMO」、波長切り替え可能な「NLMO-Dual」のラインアップです。
LDI Innovation社
『CEX-100』はL36 x W15 x H23 cm、『PSX-501』はL38 x W42 x H18 cmというコンパクトサイズです。CEX-100は193nm (ArF)・248nm (KrF)・308nm (XeCL)・351nm (XeF)、PSX-501は193nm (ArF)・248nm (KrF)のラインアップとなります。
Access Laser社
波長9.3um・CW・ハイパワーかつ超高安定のCO2レーザーです。加工用途では波長10.6umに比べて熱影響を小さくすることができ、ガラス微細加工においては最適なレーザーです。
OPTOMAN社
193nm深紫外(DUV)レーザーシステムにおける長寿命・低メンテナンス・高安定性の光学コーティングに対する高まる需要について取り上げます。実際のArFリソグラフィシステムにおける誘電体酸化物コーティングの利点を紹介します。
〒141-0031 東京都品川区西五反田2-26-9 五輪プラザビル4F TEL:03-5436-9361 FAX:03-5436-9364 E-mail:sun@sun-ins.com
波長155-410nm・真空紫外分光器
波長155nmから410nmをカバーします。窒素を循環または真空にすることにより、今までの下限であった180nmから更に短波領域を測定することに成功しました。裏面入射型2048ピクセルCCDセンサを採用、波長分解能0.3~1.8nmを選択できます。