ホーム > ピックアップ > ArFエキシマレーザー向け・193nm高反射レーザーミラー

Picup

ArFエキシマレーザー向け
193nm高反射レーザーミラー

193nm

ArFエキシマレーザー向けにOPTOMANが高反射ミラーを開発しました。IBSコーティングにて「> 98% @193nm」の反射率を実現しました。紫外線波長レンジにおいて高い反射率を実現するにあたり、散乱・吸収のロスはうまく制御する必要があります。UVレーザーユーザーにとっては、ミラーの劣化は大きな問題です。Optomanは表面品質と最適化したコーティング技術に注目しました。この技術によりUVレーザーから光学素子を保護し、寿命を延ばします。

メーカー

Optoman(リトアニア)

製品詳細

型番 PP-UVFS-25.4-6.35-LLM290
材質 UVFS (Corning 7980 0F)
直径 25.4 mm +0/-0.1 mm
厚さ 6.35 mm +/-0.1 mm
有効径 22 mm
面精度・S1 <λ/10 @ 633 nm over any 15 mm dia
IBSコーティング
S1 HRa > 98% @ 193 nm, AOI=45 deg
S2 Uncoated

comparison

Optoman

カタログ

pdf 193nmミラーカタログ

pdf 193nmテストデータ

YouTube動画

OPTOMAN - Your Sidekick for Laser Optics Development

この製品のお問い合わせ

お名前
ふりがな
勤務先名
部署・役職 【部署】
【役職】
勤務先住所 【都道府県】

【ビル・マンション名】
電話番号・FAX 【電話】
【FAX】
Eメール
アクセスのきっかけ
お問い合わせ内容
ページトップ