シリコンウエハー加工の未来を
波長2µmフェムト秒レーザーが牽引！
Active Fiber Systems社が産業向けに波長2µmのフェムト秒レーザーを開発しました。ウルトラファーストツリウムレーザーの独特の性能をモジュールデザインに収めた新モデル"activeTwo-15"は、効率・万能性・簡便な保守性について新たな基準を作り出しました。本モデルは高い信頼性・生産性で、円滑にお客様の生産ラインに組み込み、最先端技術を活用するべく開発されました。
メーカー
Active Fiber Systems（ドイツ）
事例紹介
バルクシリコンへの横方向超高速レーザー刻印
参照元 ： PHYSICAL REVIEW RESEARCH
【和訳】
シリコンのインボリューム超高速レーザー直接書き込みは、一般に、改質の生成を妨げる強い非線形効果によって制限されます。 有利なスペクトル・時間・空間条件を使用することにより、シリコン内部に改質を繰り返し発生させることができることを実証します。波長2µmの時間的に歪んだフェムト秒パルスは、点像分布関数分析によって予測され、非線形伝播シミュレーションとよく一致するように、異なる起源の球面収差が相互にバランスする方法で集束されます。 また、パルス間ベースでの改質成長を支配する法則も確立し、照射条件に応じてさまざまな線形態をもつシリコン内部の横方向の刻印を実証できるようになります。 最後に、単一パルスの反復可能な改質の生成が、シリコン内部に信頼性の高い横方向の刻印を行うための必要条件であることを示します。
ピコ秒レーザーパルスによるシリコンのナノ構造裏面アモルファス化
参照元 ： Applied Physics Letters
【和訳】
厚さ525µmの結晶シリコンサンプルの裏面のレーザーベースのアモルファス化を研究します。 結晶状態からアモルファス状態への局所的な変化に十分なエネルギーを蓄積するには、25 ps のパルス幅で波長 2µm のレーザー照射とベッセルビーム整形を組み合わせます。決定論的な単一サイト改質とアモルファスシリコンの均質な連続ラインが実証されています。光学顕微鏡および電子顕微鏡とラマン分光測定を併用すると、サブ波長の周期的表面構造の形成を特徴とする材料の変質が強調されます。この研究により、内蔵マイクロ電子デバイスの処理の可能性が開かれます。
高輝度・高繰り返し・Water Window軟X線光源
参照元 ： Light: Science & Applications
【和訳】
高輝度でコヒーレントな軟 X 線放射は、基礎研究や生命科学におけるさまざまな用途に不可欠です。 現在までこのスペクトル領域の高い光子束は、非常に高いピークパワーを持つkHz クラスの繰り返し率レーザーによって駆動されるシンクロトロン、自由電子レーザー、または高次高調波発生源によってのみ提供できます。 ここでは、数サイクル領域への非線形パルス自己圧縮を単一の位相整合高次高調波生成と組み合わせるコンパクトな実験を提示することにより、強力で使いやすいSXR光源への新しい道を確立します。
レーザー仕様
| モデル | activeTwo-15 |
| 中心波長 | 1980 nm |
| パルス繰り返し | シングルショット - 25 MHz |
| 平均パワー | 15 W |
| パルスエネルギー | up to 100 µJ (at up to 150 kHz) |
| パルス幅 | <400 fs - 5 ps adjustable, or up to 1.5 ns |
| 偏光 | 直線 |
| ビーム品質 | M2 < 1.3 |
| ポインティング安定性 | <10 µrad RMS |
| レーザー寸法 (L ×W× H) ・ 重量 | 800mm x 300mm x 400mm, <100kg |
カタログ
実機写真・データ
Power Stability
Beam Profile
Pointing Stability
YouTube動画
Long-term stable 120 W fiber CPA with 1.3 GW peak power at 2 μm central wavelength
